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隨著先進(jìn)材料科學(xué)的發(fā)展,對高溫過程的精確控制提出了更高的要求。無論是二維材料的金屬嵌入、半導(dǎo)體界面調(diào)控,還是新型磁性納結(jié)構(gòu)的構(gòu)建,高溫環(huán)境下的過程控制都是決定最終結(jié)構(gòu)與性能的關(guān)鍵因素。在此背景下,IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學(xué)高溫計,以其非接觸、高精度、響應(yīng)快等特性,成為眾多科研項目及工業(yè)應(yīng)用的優(yōu)選測溫設(shè)備。
精準(zhǔn)控溫,保障石墨烯多層結(jié)構(gòu)制備質(zhì)量
在近期發(fā)表于 Nanotechnology 的研究中,研究團(tuán)隊在碳化硅基底上構(gòu)建了石墨烯/鈷/鉑(G/Co/Pt)多層異質(zhì)結(jié)構(gòu),并對其結(jié)構(gòu)、化學(xué)與磁性能開展系統(tǒng)研究。為實(shí)現(xiàn)對Pt與Co金屬層的嵌入式重構(gòu)(intercalation),實(shí)驗過程中需要在超高真空環(huán)境下精確加熱至700–900°C。
在該過程中,IMPAC IGA 6/23 光學(xué)高溫計承擔(dān)了關(guān)鍵任務(wù):
實(shí)時監(jiān)測樣品表面溫度
確保金屬嵌入的溫控窗口精度控制在 ±1°C
避免因溫度偏差導(dǎo)致石墨烯層脫附或金屬硅化物形成
研究表明,正是得益于該高溫計的精準(zhǔn)控制,研究人員得以成功獲得質(zhì)量均一、結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的金屬-石墨烯異質(zhì)結(jié),有效抑制了Co與SiC的反應(yīng),為實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)磁結(jié)構(gòu)提供了基礎(chǔ)保障。
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非接觸式測量,適配高真空與嚴(yán)苛條件
IMPAC IGA 6/23 高精度紅外測溫系列,其核心優(yōu)勢包括:
非接觸式紅外測量技術(shù):避免傳統(tǒng)熱電偶污染或損傷樣品;
高溫段精度出眾:適用范圍可達(dá) 50°C 至 2500°C,特別適合石墨烯、金屬膜、陶瓷等材料;
適應(yīng)真空、惰性氣氛等實(shí)驗條件:確保溫度數(shù)據(jù)在特殊環(huán)境下依然可靠;
快速響應(yīng)時間(ms級):適合動態(tài)退火、快速升溫等過程監(jiān)控。
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科研與工業(yè)的共同選擇
IMPAC IGA 6/23 不僅廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)研究(如材料物理、薄膜沉積、磁性異質(zhì)結(jié)研究等),更在以下工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出優(yōu)秀性能:
半導(dǎo)體晶圓加熱工藝
金屬粉末燒結(jié)與熱處理
光伏硅片退火控制
高溫反應(yīng)器溫度管理
其多功能模擬/數(shù)字輸出接口也方便與實(shí)驗室控制系統(tǒng)或工業(yè)自動化系統(tǒng)集成,實(shí)現(xiàn)溫度閉環(huán)控制。
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總結(jié)
IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學(xué)高溫計,以其非接觸、高精度、環(huán)境適應(yīng)性強(qiáng)等技術(shù)優(yōu)勢,為前沿材料制備提供了可靠的溫度測控保障。在二維材料、自旋電子學(xué)及高溫功能薄膜等研究領(lǐng)域,已成為推動科學(xué)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級的關(guān)鍵測溫設(shè)備。
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